· 硬度标尺 ：4Be~92U

· 发射源：搭载高亮度肖特基发射体

· 二次电子图像分辨率：3nm（加速电压30kV）

· X射线取出角角度：52.5°，最大限度减少X射线被吸收

· 分光晶体：全聚焦型

· X射线谱仪：高灵敏度、高分辨率型

1　高亮度肖特基发射体 
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。

2　 EPMA专用电子光学系统 
电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。

3　超高真空排气系统 
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。

4　高灵敏度X射线谱仪 
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。