DMD无掩膜光刻机-领拓仪器-标乐金相制样,进口硬度计,徕卡显微镜,徕卡电镜制样,烘箱,台式桌面扫描电镜

DMD无掩膜光刻机

泽攸科技无掩膜光刻机——桌面级微纳加工解决方案。采用DMD直写技术，无需掩模板，实现0.5μm超高精度线宽。支持405nm紫外曝光+CCD自动对焦，适用于MEMS、生物芯片、微流控器件研发

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产品描述

泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备，专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源，并结合先进的DLP技术，实现了黄光或绿光引导曝光功能，真正做到“所见即所得”，极大提升了操作便捷性和工艺可控性。其独特的光路结构和高精度直线电机位移台确保了卓越的曝光精度和重复定位能力，同时配备CCD相机逐场自动对焦系统，进一步优化了成像质量和工艺稳定性。设备支持电动物镜切换和激光主动对焦功能，能够灵活应对不同应用场景的需求。其紧凑的桌面小型化设计不仅节省空间，还便于在实验室或生产环境中部署。此外，ZML10A配备了直观易用的软件界面，大幅降低了操作门槛，即使是初学者也能快速上手。无论是超材料结构、电极图案还是微流控芯片等复杂微纳结构的制备，ZML10A都能提供可靠的支持，是科研工作者和工业用户的理想选择。

特点与优势

▲ 桌面小型化

▲ 高功率、高均匀度LED刻写光源

▲ 绿光引导曝光，所见即所得

▲ CCD相机逐场图像自动对焦

▲ 高精度直线电机位移台

▲ 用户友好，易于操作的软件界面

光路原理结构图

主要指标

关键技术指标
紫外光源中心波长	405 nm	单次写场曝光面积	0.16*0.16mm (@0.5um)
曝光均匀度	90%以上	刻写速率	80mm^2/min(1um特征线宽)
最小特征线宽	0.5um	支持图片格式	DXF、GDS、bmp、png等
配置	基础版	专业版
光源	强光LED:405nm
DMD芯片	DLP6500
单场曝光面积	0.160.16mm (@0.5um)、0.40.4mm(@0.7um) 0.80.8mm (@1um)、1.61.6mm (@2um)
相机	大靶面显微相机（支持尺寸测量）
最小等间隔线宽	0.8um	0.5um
拼接精度	±0.3um	±0.3um
套刻精度	±0.5um	±0.5um
刻写速度	20mm^2/min(1um特征线宽)	80mm^2/min(1um特征线宽)
运动台	高精度直线电机(重复定位精度±0.25um) 调平机构、手动旋转台	高精度直线电机(重复定位精度±0.25um) 调平机构、电动旋转台
物镜转换器	手动物镜切换	电动物镜切换
对焦模组	CCD图像自动对焦	激光主动对焦
支持硅片尺寸	4inch	4 inch / 8inch
样品厚度	0-10mm	0-10mm

应用实例