• VibroMet™ 2 振动抛光机


    VibroMet® 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层,从而得到无应力的制备表面,而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光,可适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)。不同于传统的振动抛光机,VibroMet 2可以产生几乎完全水平方向的振动,最大限度地提高了样品接触抛光布的时间。用户设定好程序后就可以离开,样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。

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设定后无需过多留心

·样品在抛光盘中可自动开始振动抛光
·12in [305 mm]直径抛光盘可同时制备多达18个样品
无需使用危险电解液

·替换电解抛光仪和危险电解液
·结合VibroMet 2 与MasterMet二氧化硅抛光液,MicroCloth 抛光布对样品进行化学-机械抛光
快速去除样品表面变形层

·水平运动温和地抛光样品不引起机械应力
·所得样品表面适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)
·对混合材料和不均匀样品都能达到完美的制备效果

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