仪器介绍 | GU-AI9000离子减薄仪

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对于许多材料，想观察其内部结构就需要使用到透射电子显微镜，但由于透射电镜对样品厚度的限制，绝大部分的材料样品都不能直接放到透射电镜进行观察拍摄。因此样品在进行透射电镜拍摄前需要进行前处理，使其变薄至200 nm以下，目前常用的方法有凹坑法、化学腐蚀法、超薄切片法和离子减薄法。

不同的方法适用于不同的样品，凹坑法和化学腐蚀法会在不同程度上对样品有着破坏的弊端，超薄切片在一些脆性材料面前就显得不那么适用，并且在经济上也价格更加高昂，而离子减薄法基本能适用于各类样品且操作便捷，离子减薄过后的样品可以直接上透射电镜进行观察拍摄。

离子减薄

离子减薄仪是透射电镜样品制备流程中不可或缺的微纳加工仪器，可将大部分金属、陶瓷、涂镀层等材料加工成厚度小于200 nm的薄片。它由显微镜、CCD摄像头 (或数码相机)、样品仓及真空泵、离子枪等部分组成。它的工作原理是由电场将氩气电离形成氩离子后通过离子枪打出，轰击样品表面，使样品表面的颗粒脱落从而达到减薄的目的。减薄过程通常是双面减薄，有助于获得更均匀的薄区且效率更高。

双面减薄示意图

鼎竑GU-AI9000离子减薄仪有着它独特的优势，首先它具有无磁聚集离子源，不会使磁性碎屑吸附在样品表面，离子束斑大、离子枪易维护。并且双离子源可独立控制，能量范围广，适合各类样品，同时具备高能量(快速制样)和低能量(精细修复)的功能。其次它的减薄功能十分强大，同时具有快速、薄区大和自动终止等特点。并且它的真空及制冷系统也在同类设备中处于领先地位，使用了内置双泵（浦发隔膜泵和莱宝涡轮分子泵），不占用多余空间，同时具有半导体冷台制冷，无需液氮也可到达-30℃。

鼎竑GU-AI9000离子减薄仪

应用案例

01单晶硅片减薄

02碳化物-钴硬质合金

这类硬质合金在汽车、航空等领域应用广泛，但它具有强度大、硬度高等特点不易制样，在减薄过程中既要快速又要保持减薄薄区可观察，使用GU-AI9000离子减薄仪可以解决这类样品制备问题。

03紫铜

这类样品属于较易制备样品，在各类行业都应用广泛。

04铝合金

铝合金在电器等行业应用广泛，且这类样品较易制备。

鼎竑GU-AI9000具有无磁聚集离子源、破孔自动终止等技术优势，可满足电镜制样前处理需求，是专为上透射电镜的材料样品进行处理的离子减薄仪。如果您对我们的产品感兴趣，可扫描下方二维码添加客服，欢迎前来咨询沟通。

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